1. 应用

1) MPCVD钻石培育。

2) MOCVD半导体。

3) 电子芯片。

4) 色谱分析。

5) 粉末冶金。

6) 核能

7) 光伏。

2. 特点

1) 基于钯膜的氢分离，输出氢纯度高（≥7N）。

2) 寿命长，维护成本低。

3) 安装便捷，使用简单。

4) 原料氢气适配广。

5) 流量可达5NL/min。

3. 技术规格

型号	HP-005
基本参数
纯化原理	金属钯膜/氢气纯化
高纯氢输出纯度①	≥99.99999%（绝对纯度）
高纯氢输出流量	5NL/min（氢气流量随压力变化曲线见下图）
原料氢要求	纯度≥99.99%
原料氢输入压力	≤1 Mpa
高纯氢输出压力	≤5 barg
原料氢输入接口	1/4"VCRM
高纯氢输出接口	1/4"VCRM
废气输出接口	1/4"双卡套接头
工作温度	（-10～55）℃
环境湿度	（0～85）%RH
尺    寸	600 L*450 W*500 H（mm）
重    量	25 KG
工作电源	230V/50-60Hz
大功率	1KW

① 输出纯氢纯度与原料氢气纯度有关，原料氢纯度越高，输出氢气纯度越高。

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